半导体封装废水怎么处理方法|半导体封装废水处理案例
項目的背景
该品牌为于安徽省广州市,主要是专业从事中高端半导体技术基带芯片的二极管封装测量,日摆放废发电量约200吨。在工作的过程中利用各种各样化学上的药物,污水部分僵化,包含高氨水浓度铜、镍等天价属及氯化橡胶漆丙烯酸酯乳液、光刻胶等可挥发危害物。品牌同一加工处理公共设施没法够满足2017最新摆放标淮,需要强制升级拆除。
污废水 的成分及收入
主轴电镀污废水
:种类于心片引脚镀膜制作工序,包含有铜、镍、锡等血本属铁离子,pH值跌涨大。
有机酸废水处理
:重要来装封胶固定、光刻方法,有效固化剂不饱和树脂、异丙醇、甲苯等无机石油醚。
酸性污废水
:诞生于晶圆洁净和蚀刻工艺,所含氢氧化物钠、氢氧化物钾、氢氧化物钠等。
处理的流程图
预加工处理阶段中,
强酸强碱与
:利用投加设配转换pH至6-9,应对后继解决设配腐蚀性。
混疑积淀
:添加PAC(聚合物氯化铝)和PAM(聚丙乙烯酰胺),祛除自动隐藏物和那部分高价属。
核心区除理的阶段
初级被氧化
:所采用Fenton实验试剂(H₂O₂+Fe²⁺)进行分解难溶解有机酸物,COD除去率达70%大于。
膜滤出
:超滤膜(UF)+反渗入(RO)结构工艺流程,进步骤虚报冒领天价属和溶化性设计物。
层次处里时期
正离子对调
:特定采取铜、镍阴阳离子,保证水流天价属含水量低过0.5mg/L。
可溶性炭吸附剂
:是 结果是有效保障了,去掉无残留少量巧妙物。
结果成效
经整理后,冒水生活饮需要用水实现《电子设备工业园水严重空气污染物排放口标准单位》(GB 39731-2020):COD<50mg/L、铜<0.3mg/L、镍<0.1mg/L,使用率升降至60%,次年业绩需要用水直接费用约80万元左右。