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半导体含氟废水处理案例|半导体含氟废水处理方法

该项目背景图案 该半导体技术开发公司商家属于华中区域,其主要研发融合线路加工芯片,日释放标准含氟生产生产废水约800吨。可能本省干净标准提升 ,本身加工体系是没办法达到氟化物释放标准盐浓度不低于5mg/L的新耍求,公司商家的投资14000万元创建专业化含氟生产生产废水加工控制系统。 废液成分表及源头 废污水重要来出自于于IC芯片加工制造期间中的刻蚀生产工艺和的清洗生产工艺,重要废弃物物是指: 氟化合物氧浓度:300-800mg/L pH值:2- 有少量的硅酸盐、聚磷酸盐 轻微血本属如铜、镍等 解决生产工艺程序流程 分为"预设解决+化学物质悠长岁月中+角度解决"组合式鑫霖环保: 调低池:匀衡水污染用水量,如何设置pH手机在线数据监测 1阶段现象池:加药氢氧化物钙,操纵pH至7-8,造成氟化钙沉淀自己 3级水解池:水解拆分氟化钙污泥处理 两级发生反应池:污泥脱水氯化钙和整合氯化铝,进一点弄掉残渣氟铁离子 中级发展物中池:首次发展物中区分 砂滤系统软件:我们要除自动隐藏物 化学活化炭物理吸附:清掉有机质物和进样器巨资属 生活污水补救机系统:板框压滤出现脱水,生活污水含水分率调至60%左右 结果是实际效果 机系统启动增强后,出液水体质量: 氟铁离子溶度:2.1-3.8mg/L pH值:6.5-7. SS<5mg/L 巨资属含氧量均低过排除限 几乎拥有《电子为了满足电子时代发展的需求,企业水空气挥发性有机物排放出物标准规定》(GB39731-2020)需要,每一年的才能减少氟化物排放出物约180吨。

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