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半导体晶圆划片废水怎么处理方法|半导体晶圆划片废水处理案例

大型项目背静 该公司的工厂为国际优势的半导体行业首测公司的工厂,坐落在粤港澳大湾区型沿海地区,基本去高级存储芯片的片区和打包封装试验。可能各地环保性规范要求标准,公司的工厂直接决定推进污废水 污水清理技术标准建设工程。好项目于202一年启动服务器,202一年6月建造投运,清理项目投资额为200吨/日,总项目投资约2000千元。 生活污水化学成分及起源 本次基本原则划区工业废水包括下面的特殊性: 高有机废气溶度氟化物,重要源自晶圆打磨后的难以清理加工过程,氟阳离子有机废气溶度将高达150-200mg/L 所含纳米级级硅粉颗粒物,孔径多在100-500nm相互间 生产强度较高,COD在500-800mg/L 富含轻微高价属如铅、镉等 纯水电导率高,一般而言在2000-3000μS/cm 治理 施工工艺步骤 为实行零尾气排放标准的目标,工艺流程定制比较偏重考虑的废水处理工艺几大类获得和资源量回笼: 电镀废水几大类整理系统软件 :将含氟焦化工业废水与一些焦化工业废水独立搜集 化学上的奠定除氟 :选取多级钙盐凝固法,搭配提高效率凝固池 高档脱色进行处理 :臭氧的危害崔化阳极氧化化学降解难加工处理巧妙物 膜沉淀系统软件 :采用了DTRO碟管式反覆盖,溶缩陪数为10倍 汽化凝结 :MVR机械设备饱和蒸汽再挤压减压蒸馏器处理浓水 非常干燥系统软件 :将析出盐非常干燥后充当重工业副类产品外售 补救治疗效果 设计程序运行数据资料界面显示: 氟化物弄掉率>99.9%,满水后氟阳离子<1mg/L COD总取除率>98%,喷水COD<20mg/L 水市场回收并率>95%,仅引发极富成果盐 历年可再生资源处理高产品品质循环水约六万吨 结晶体盐含量提高企业级标,保持教育减量化利用 产品不仅能做到了污水零污染物,还按照资源共享再利用提供了约80万美金/年的上限价值。

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