活动图片背景 深圳某半导体技术厂产出全过程中同時制造高硅废液（SiO₂ 500-800mg/L）和含氟废液（F⁻ 200-300mg/L）。俩种废液比调时易型成氟硅酸氢氧化铁，经典化学滤渣法不易增强达到标准单位。的项目要导入清除硅和氟（尾气废水排放标准单位标准单位：SiO₂≤30mg/L，F⁻≤10mg/L）。 焦化废水部分及收入 具体组成成分 ：硅酸氢钠（NaHSiO₃）、氟化铵（NH₄F）、异丙醇 由来 ：晶圆刻蚀焦化电镀废水、CMP研磨抛光焦化电镀废水、生产设备擦洗水 外理加工步骤流程 协同管理沉定步骤 ： 多级症状池 ： 1、级添加Ca(OH)₂转换成CaF₂和CaSiO₃沉淀物； 第二点级污泥脱水PAC（缔合氯化铝）提升斜板沉淀池。 固液分离处理阶段中 ： 反渗透膜体统 ：利用0.02μm直径膜零件挪作他用橡胶胶体部分硅和微细沉淀物物。 淬硬层脱氟时候 ： 几丁质酶防氧化铁溶解塔 ：残存氟化合物吸消除。 进而功能 出水出水SiO₂≤25mg/L，F⁻≤8mg/L，远依赖于一个国家细则。 反渗透装置设计通量可靠在15LMH，化学物质难以清理过渡期延长了至60天。 污水经压滤后含水量率＜65%，可按一样 废弃物应对。